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1. 主要功能及特色：
非磁性金属材料溅射工艺。3英寸磁控溅射靶枪：6支。可以满足共溅射和连续溅射的工艺需求。兼容射频偏压清洗功能，配置独立的偏压电源。
2. 主要规格及技术指标：
样品尺寸：6寸及以下样品 |
极限真空：1*10-7Torr |
基底温度：室温 |
提供溅射的靶材：Ti，Pt，Au，Al，Cu，TiW |
3.服务内容：
提供用户自主操作、委托加工服务
设备状态良好，可供使用
中心地址：上海市浦东新区海科路99号1号楼
联系方式：SQDL@shanghaitech.edu.cn
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