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1. 主要功能及特色：
| Mo、Cu薄膜的生长，最大6寸晶圆，硅片，含RF清洗，含LL； |
| 配置三个三英寸靶枪，并配置三个DC电源（1500W）； |
| 配置RF电源（100W)用于清洗样品； |
2. 主要规格及技术指标：
| 系统配置LL+PC，并采用全自动传样，配置4及6寸晶圆卡盘； |
| LL配置机械泵（6.7cfm），LL配置分子泵（260L/sec），与LL之间有Hi Vac 阀门； |
| PC腔体采用冷凝泵抽真空（1600L/s）； |
| PC腔室体积：50L（样品台距离靶枪距离：~380mm）； |
| PC腔体与冷凝泵之间配置多位置阀门（throttle），用于up 及down stream process； |
| PC腔样品盘配置水冷，样品盘可旋转（20RPM）； |
3.服务内容：
暂不对外开放
设备状态良好，可供使用
暂不对外开放
中心地址：上海市浦东新区海科路99号1号楼
联系方式：SQDL@shanghaitech.edu.cn
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