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一、设备介绍
1. 主要功能及特色：
主要用于材料科学、金属材料、半导体材料、陶瓷材料、化学材料等领域，可进行材料的微观形貌、组织分析，可对磁性样品和不导电样品进行高分辨成像和分析。
2. 主要规格及技术指标：
加速电压：0.02-30 KV |
分辨率：≤0.7 nm@15 KV（二次电子），≤1.2 nm@1 KV（二次电子） |
放大倍率：12-2,000,000 倍 |
探针电流：最大电流不小于 20 nA |
3.服务内容：
提供用户自主操作、委托加工服务
设备状态良好，可供使用
1.主要针对仪器操作步骤、注意事项等进行培训
2.培训方式：请到SQDL日历中查阅与报名
工艺 时间 | 工艺展示 | 内容和指标 说明 |
2022. 9.12 |
| 根据设计版图 通过SEM测量 EBL工艺后 不同线宽尺寸 |
中心地址：上海市浦东新区海科路99号1号楼
联系方式：SQDL@shanghaitech.edu.cn
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