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1. 主要功能及特色：
提供正性光刻胶和负性光刻胶的常温显影工艺
2. 主要规格及技术指标：
显影样品尺寸：4寸及以下样品，5寸及以下掩膜板
3.服务内容：
用户自主操作服务
设备状态良好，可供使用
中心地址：上海市浦东新区海科路99号1号楼
联系方式：SQDL@shanghaitech.edu.cn
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