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1. 主要功能及特色：
采用以气态乙醇作为载气与气态HF混合后，对牺牲层SiO2介质进行选择性刻蚀来释放结构。
2. 主要规格及技术指标：
配置酒精和HF气体侦测器：各1个 |
最大样品尺寸：4寸晶圆 |
刻蚀均匀性：＜10% |
刻蚀速率（热SiO2裸片）：80~300nm/min |
选择比（Au/Al）：＞100:1 |
3.服务内容：
提供用户自主操作、委托加工服务
设备状态良好，可供使用
工艺时间 | 工艺展示 | 内容和指标说明 |
2020.06.30 |
| 刻蚀25min，红外显微镜图片 |
中心地址：上海市浦东新区海科路99号1号楼
联系方式：SQDL@shanghaitech.edu.cn
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