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1. 主要功能及特色：
在SEM基础上配置Raith图形发生器控制系统，除自身扫描电镜成像功能外，亦可实现EBL光刻的功能。
2. 主要规格及技术指标：
配置Raith图形发生器系统一套 |
加速电压：0.02-30 KV |
样品尺寸：最大20mm*20mm，形状规则 |
放大倍率：12-2,000,000 倍 |
写场：25μm~1000μm |
探针电流：最大电流不小于 20 nA |
最小线宽&套刻精度：100nm |
3.服务内容：
提供用户自主操作、委托加工服务
设备状态良好，可供使用
工艺时间 | 工艺展示 | 内容和指标说明 |
2022.9.19 |
| 光刻胶PMMA A2曝光线条 |
中心地址：上海市浦东新区海科路99号1号楼
联系方式：SQDL@shanghaitech.edu.cn
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