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3-11
预约送样
化学气相沉积系统PECVD
设备编号：3-11
设备管理员A：吴廷琪
设备管理员B：
邮箱：wutq@shanghaitech.edu.cn
邮箱：
电话：021-20684742
电话：

1. 主要功能及特色：

氧化硅和氮化硅的沉积工艺。

2. 主要规格及技术指标：

样品尺寸：4寸及以下样品

氮化硅、氧化硅薄膜＜500nm，应力＜300MPa

沉积温度：300℃

氧化硅沉积工艺气体：SiH4，N2O，N2

氮化硅沉积工艺气体：SiH4，   N2，NH3

3.服务内容：

提供用户自主操作、委托加工服务


设备状态良好，可供使用


1.主要针对仪器操作步骤、注意事项等进行培训

2.培训方式：请到SQDL日历中查阅与报名


SQDL平台化学气相沉积PECVD系统操作规程（SOP).pdf


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