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1. 主要功能及特色：
无掩膜光刻可以不使用掩模板直接描绘光刻胶图形，其使用基于空间光调制器的数字掩模代替传统光刻的物理掩膜，既省去掩模板的成本，又提高了光刻的灵活性，而且可以对设计图形进行快速修改，非常适合研发环境。
2. 主要规格及技术指标：
样品尺寸：10*10mm-50*50mm小尺寸样品、2寸、3寸、4寸、5寸、6寸标准晶圆及Mask |
样品厚度：小于10mm |
紫外光波长：375nm(3W)、405nm(8W)，双波长 |
最小线宽：1.0μm |
正面对准精度：±0.5μm |
背面对准精度：±1.0μm |
3.服务内容：
提供用户自主操作、委托加工服务
设备状态良好，可供使用
1.主要针对仪器操作步骤、注意事项等进行培训
2.培训方式：请到SQDL日历中查阅与报名
工艺时间 | 工艺展示 | 内容和指标说明 |
2021.10.20 |
| 0.5μm AZ1500光刻胶 1.0μm Line |
中心地址：上海市浦东新区海科路99号1号楼
联系方式：SQDL@shanghaitech.edu.cn
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