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1. 主要功能及特色：
介质薄膜，金属材料溅射，目前提供溅射的靶材：Nb（DC和RF各1块）、Si、Ta； |
共6支3英寸磁控溅射靶枪；2台 600W射频电源，2台1000W直流电源，1台2KW的DC+Pulse电源；可以满足共溅射和连续溅射的工艺需求，兼容射频偏压清洗功能，配置独立的偏压电源； |
极限真空：5*10-8Tor，冷泵抽速1500l/s，Ar气流量：0-100sccm，N2气流量：0-20sccm，另外还配有O2工艺气体； |
样品表面可等离子清洗，衬底温度20-400℃ |
2. 主要规格及技术指标：
仅限硅基及蓝宝石，表面不可带光刻胶，不可以用高温胶带，晶圆尺寸：≤6”； |
Nb DC 生长速率：110nm/min，应力：-2MPa； |
3.服务内容：
提供用户自主操作、委托加工服务
设备状态良好，可供使用
1.主要针对仪器操作步骤、注意事项等进行培训
2.培训方式：邮件或电话联系工程师
中心地址：上海市浦东新区海科路99号1号楼
联系方式：SQDL@shanghaitech.edu.cn
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