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1. 主要功能及特色：
| Ti、Au、Cu等非磁金属薄膜生长，硅片，含RF清洗，含LL； |
| LL配置RF清洗源，用于清洗样品表面； |
| PC腔样品盘配置水冷及晶振，样品盘可旋转（20RPM）； |
2. 主要规格及技术指标：
| 系统配置LL+PC，PC腔体的极限真空为2E-8torr，并采用全自动传； |
| 配置4及6寸晶圆卡盘，LL配置机械泵（25cfm=11.8L/sec）； |
| LL配置分子泵（260L/sec），与LL之间有Hi Vac 阀门； |
| PC腔体采用冷凝泵抽真空（3000L/s），PC腔室体积：233L（样品台距离靶枪距离：~680mm）； |
| 配置六个坩埚位置（Ti，Au，Cu，PdAu等金属）； |
| 配置一个电子束电源（5KW），用于生长所有金属； |
3.服务内容：
暂不对外开放设备状态良好
暂不对外开放
中心地址：上海市浦东新区海科路99号1号楼
联系方式：SQDL@shanghaitech.edu.cn
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